2025 Q3-rapport
55 dager sidenOrdredybde
Nordic Growth Market
Antall
Kjøp
34 691
Selg
Antall
44 309
Siste handler
| Tid | Pris | Antall | Kjøpere | Selger |
|---|---|---|---|---|
| 82 014 | AVA | NON | ||
| 14 000 | AVA | NON | ||
| 17 000 | AVA | ENS | ||
| 9 803 | AVA | AVA | ||
| 5 570 | AVA | NRD |
Høy
0,086VWAP
Lav
0,079OmsetningAntall
0,1 793 597
VWAP
Høy
0,086Lav
0,079OmsetningAntall
0,1 793 597
Meglerstatistikk
Fant ingen data
Selskapshendelser
| Kommende | |
|---|---|
| 2026 Q4-rapport | 20. feb. |
| Historisk | ||
|---|---|---|
| 2025 Q3-rapport | 14. nov. 2025 | |
| 2025 Q2-rapport | 25. juli 2025 | |
| 2025 Q1-rapport | 9. mai 2025 | |
| 2025 Q4-rapport | 14. feb. 2025 | |
| 2024 Q3-rapport | 8. nov. 2024 |
Data hentes fra FactSet
Kunder besøkte også
Shareville
Bli med i samtalen på SharevilleEt fellesskap av investorer som deler innsikt og kunnskap i sine porteføljer.
Logg inn
·2. jan. · EndretUavhengig speiding - diverse kilder: Nanoimprint Lithography (NIL) ser ut til å gå mot en todelt fremtid: (1) rask og bred industrialisert vekst i “replication-first”-områder (fotonikk/metaflater/AR-optikk, LED/PV, mikrooptikk), og (2) en mer usikker, men seriøst satset vei mot utvalgte halvledertrinn der kostnad/energi/enkle prosessflyter kan slå igjennom – om defectivity, overlay og template-økosystemet når “masseproduksjon i praksis”. Hvor NIL står akkurat nå NIL har modnet betydelig og fremheves ofte som spesielt attraktivt der man ønsker å kopiere den samme nanostrukturen om og om igjen over store områder (f.eks. diffraktiv optikk, bølgeledere, metasurfaces). Innen avansert chip-litografi er den mest bemerkede kommersielle satsingen Canons NIL-plattform (FPA-1200NZ2C), som Canon selv fremhever som en mer energieffektiv og potensielt billigere vei enn EUV i visse flyter. Hva som driver NIL fremover (hvorfor interessen øker) Kostnad og energi: Canon har eksplisitt markedsført NIL som betydelig lavere energibehov og enklere prosesstrinn sammenlignet med EUV i deres narrativ. Fotonikk/AR og store områder: Roll-to-plate/rolling NIL fremheves som en muliggjører for skalerbar produksjon av AR-bølgeledere/diffraktive elementer og relatert mikrooptikk. Template-innovasjon: Det skjer ting rundt templates (stemplene) og deres oppløsning/produksjon, noe som er sentralt for at NIL skal skalere til “ekte” volum. De største hindrene (det som avgjør om NIL blir “mainstream” i chips) I chipproduksjon er dette de klassiske “make-or-break” punktene: Defekter/partikler (kontaktprosess → følsom for kontaminasjon) og yield-spørsmål. Overlay/alignment (å legge mange lag nøyaktig oppå hverandre) og mekaniske deformasjoner/wafer-distortion i kontakttrinn. Template-levetid, kostnad og forsyningskjede (produksjon, inspeksjon, rengjøring, erstatning). Sannsynlig utvikling 2026–2030 1) Sterkest og mest sannsynlig vekst: fotonikk & nanooptikk Hier passer NILs “kopieringsstyrke” perfekt: den samme gitter/metaflate/bølgelederstrukturen kan replikeres med høy presisjon og god stykkostnad når prosessen sitter. 2) Halvledere: mer selektivt – først der NIL gir tydelig ROI Snarere enn å “erstatte EUV rett ut” er det mer realistisk at NIL tar nisjer eller spesifikke lag (f.eks. mønstre som er godt egnet for imprint, eller der kostnad/energi/verktøyflyt dominerer). Canon posisjonerer også NIL som et EUV-alternativ på kost/energi, men industrien er fortsatt i en fase der bevis i HVM (high-volume manufacturing) er det som teller. 3) EUV blir ikke “stillesittende” – og det påvirker NILs vindu EUV (inkl. High-NA) fortsetter å drives frem til tross for svært høye verktøykostnader, noe som betyr at NIL må vinne der EUV blir for dyrt/energitungt eller der NIL gir færre prosesstrinn med akseptabel yield. Hva jeg ville holde øye med (signalspaning) Uavhengige HVM-resultater: ikke bare pressemeldinger – men yield/defectivity/overlay-data over tid. Template-økosystemet: leveringskapasitet, inspeksjon, rengjøring, levetid og kostnad per wafer. Gjennombrudd i AR/metaflater: hvis AR-bølgeledere/metasurfaces skalerer i volum, kan NIL bli “default” for hele den optikklassen.
·18. des. 2025Jeg er nok den eneste som sitter med Svarteper fordi ingen svarer. Det var jo trist..... Noen tanker der ute ?
·19. des. 2025Tvert imot! De fleste sitter nok med Svarteper og de fleste har nok gitt opp.·19. des. 2025Jeg leste i dag at kineserne prøver å utvikle en chip type Nvidia, og slikt lages med litografi. De har forsøkt å kopiere det nederlandske selskapets produkt, men har ikke lyktes. Er det ikke noe gutta på Obducat burde kommentere, og hvis det ligger innenfor deres forretningsområde, for det burde kunne være en skikkelig hyggelig cliffhanger.....
Kommentarene ovenfor kommer fra brukere på Nordnets sosiale nettverk Shareville og er verken redigert eller forhåndsvist av Nordnet. De innebærer ikke at Nordnet gir investeringsråd eller investeringsanbefalinger. Nordnet påtar seg ikke ansvar for kommentarene.
Nyheter
Nyheter og/eller generelle investeringsanbefalinger, eller utdrag av disse på denne siden og øvrige lenker, er produsert og levert av den spesifiserte leverandøren. Nordnet har ikke deltatt i utarbeidelsen, og har ikke gjennomgått eller gjort endringer i materialet. Les mer om investeringsanbefalinger.
2025 Q3-rapport
55 dager sidenNyheter
Nyheter og/eller generelle investeringsanbefalinger, eller utdrag av disse på denne siden og øvrige lenker, er produsert og levert av den spesifiserte leverandøren. Nordnet har ikke deltatt i utarbeidelsen, og har ikke gjennomgått eller gjort endringer i materialet. Les mer om investeringsanbefalinger.
Shareville
Bli med i samtalen på SharevilleEt fellesskap av investorer som deler innsikt og kunnskap i sine porteføljer.
Logg inn
- ·2. jan. · EndretUavhengig speiding - diverse kilder: Nanoimprint Lithography (NIL) ser ut til å gå mot en todelt fremtid: (1) rask og bred industrialisert vekst i “replication-first”-områder (fotonikk/metaflater/AR-optikk, LED/PV, mikrooptikk), og (2) en mer usikker, men seriøst satset vei mot utvalgte halvledertrinn der kostnad/energi/enkle prosessflyter kan slå igjennom – om defectivity, overlay og template-økosystemet når “masseproduksjon i praksis”. Hvor NIL står akkurat nå NIL har modnet betydelig og fremheves ofte som spesielt attraktivt der man ønsker å kopiere den samme nanostrukturen om og om igjen over store områder (f.eks. diffraktiv optikk, bølgeledere, metasurfaces). Innen avansert chip-litografi er den mest bemerkede kommersielle satsingen Canons NIL-plattform (FPA-1200NZ2C), som Canon selv fremhever som en mer energieffektiv og potensielt billigere vei enn EUV i visse flyter. Hva som driver NIL fremover (hvorfor interessen øker) Kostnad og energi: Canon har eksplisitt markedsført NIL som betydelig lavere energibehov og enklere prosesstrinn sammenlignet med EUV i deres narrativ. Fotonikk/AR og store områder: Roll-to-plate/rolling NIL fremheves som en muliggjører for skalerbar produksjon av AR-bølgeledere/diffraktive elementer og relatert mikrooptikk. Template-innovasjon: Det skjer ting rundt templates (stemplene) og deres oppløsning/produksjon, noe som er sentralt for at NIL skal skalere til “ekte” volum. De største hindrene (det som avgjør om NIL blir “mainstream” i chips) I chipproduksjon er dette de klassiske “make-or-break” punktene: Defekter/partikler (kontaktprosess → følsom for kontaminasjon) og yield-spørsmål. Overlay/alignment (å legge mange lag nøyaktig oppå hverandre) og mekaniske deformasjoner/wafer-distortion i kontakttrinn. Template-levetid, kostnad og forsyningskjede (produksjon, inspeksjon, rengjøring, erstatning). Sannsynlig utvikling 2026–2030 1) Sterkest og mest sannsynlig vekst: fotonikk & nanooptikk Hier passer NILs “kopieringsstyrke” perfekt: den samme gitter/metaflate/bølgelederstrukturen kan replikeres med høy presisjon og god stykkostnad når prosessen sitter. 2) Halvledere: mer selektivt – først der NIL gir tydelig ROI Snarere enn å “erstatte EUV rett ut” er det mer realistisk at NIL tar nisjer eller spesifikke lag (f.eks. mønstre som er godt egnet for imprint, eller der kostnad/energi/verktøyflyt dominerer). Canon posisjonerer også NIL som et EUV-alternativ på kost/energi, men industrien er fortsatt i en fase der bevis i HVM (high-volume manufacturing) er det som teller. 3) EUV blir ikke “stillesittende” – og det påvirker NILs vindu EUV (inkl. High-NA) fortsetter å drives frem til tross for svært høye verktøykostnader, noe som betyr at NIL må vinne der EUV blir for dyrt/energitungt eller der NIL gir færre prosesstrinn med akseptabel yield. Hva jeg ville holde øye med (signalspaning) Uavhengige HVM-resultater: ikke bare pressemeldinger – men yield/defectivity/overlay-data over tid. Template-økosystemet: leveringskapasitet, inspeksjon, rengjøring, levetid og kostnad per wafer. Gjennombrudd i AR/metaflater: hvis AR-bølgeledere/metasurfaces skalerer i volum, kan NIL bli “default” for hele den optikklassen.
- ·18. des. 2025Jeg er nok den eneste som sitter med Svarteper fordi ingen svarer. Det var jo trist..... Noen tanker der ute ?·19. des. 2025Tvert imot! De fleste sitter nok med Svarteper og de fleste har nok gitt opp.·19. des. 2025Jeg leste i dag at kineserne prøver å utvikle en chip type Nvidia, og slikt lages med litografi. De har forsøkt å kopiere det nederlandske selskapets produkt, men har ikke lyktes. Er det ikke noe gutta på Obducat burde kommentere, og hvis det ligger innenfor deres forretningsområde, for det burde kunne være en skikkelig hyggelig cliffhanger.....
Kommentarene ovenfor kommer fra brukere på Nordnets sosiale nettverk Shareville og er verken redigert eller forhåndsvist av Nordnet. De innebærer ikke at Nordnet gir investeringsråd eller investeringsanbefalinger. Nordnet påtar seg ikke ansvar for kommentarene.
Ordredybde
Nordic Growth Market
Antall
Kjøp
34 691
Selg
Antall
44 309
Siste handler
| Tid | Pris | Antall | Kjøpere | Selger |
|---|---|---|---|---|
| 82 014 | AVA | NON | ||
| 14 000 | AVA | NON | ||
| 17 000 | AVA | ENS | ||
| 9 803 | AVA | AVA | ||
| 5 570 | AVA | NRD |
Høy
0,086VWAP
Lav
0,079OmsetningAntall
0,1 793 597
VWAP
Høy
0,086Lav
0,079OmsetningAntall
0,1 793 597
Meglerstatistikk
Fant ingen data
Kunder besøkte også
Selskapshendelser
| Kommende | |
|---|---|
| 2026 Q4-rapport | 20. feb. |
| Historisk | ||
|---|---|---|
| 2025 Q3-rapport | 14. nov. 2025 | |
| 2025 Q2-rapport | 25. juli 2025 | |
| 2025 Q1-rapport | 9. mai 2025 | |
| 2025 Q4-rapport | 14. feb. 2025 | |
| 2024 Q3-rapport | 8. nov. 2024 |
Data hentes fra FactSet
2025 Q3-rapport
55 dager sidenNyheter
Nyheter og/eller generelle investeringsanbefalinger, eller utdrag av disse på denne siden og øvrige lenker, er produsert og levert av den spesifiserte leverandøren. Nordnet har ikke deltatt i utarbeidelsen, og har ikke gjennomgått eller gjort endringer i materialet. Les mer om investeringsanbefalinger.
Selskapshendelser
| Kommende | |
|---|---|
| 2026 Q4-rapport | 20. feb. |
| Historisk | ||
|---|---|---|
| 2025 Q3-rapport | 14. nov. 2025 | |
| 2025 Q2-rapport | 25. juli 2025 | |
| 2025 Q1-rapport | 9. mai 2025 | |
| 2025 Q4-rapport | 14. feb. 2025 | |
| 2024 Q3-rapport | 8. nov. 2024 |
Data hentes fra FactSet
Shareville
Bli med i samtalen på SharevilleEt fellesskap av investorer som deler innsikt og kunnskap i sine porteføljer.
Logg inn
- ·2. jan. · EndretUavhengig speiding - diverse kilder: Nanoimprint Lithography (NIL) ser ut til å gå mot en todelt fremtid: (1) rask og bred industrialisert vekst i “replication-first”-områder (fotonikk/metaflater/AR-optikk, LED/PV, mikrooptikk), og (2) en mer usikker, men seriøst satset vei mot utvalgte halvledertrinn der kostnad/energi/enkle prosessflyter kan slå igjennom – om defectivity, overlay og template-økosystemet når “masseproduksjon i praksis”. Hvor NIL står akkurat nå NIL har modnet betydelig og fremheves ofte som spesielt attraktivt der man ønsker å kopiere den samme nanostrukturen om og om igjen over store områder (f.eks. diffraktiv optikk, bølgeledere, metasurfaces). Innen avansert chip-litografi er den mest bemerkede kommersielle satsingen Canons NIL-plattform (FPA-1200NZ2C), som Canon selv fremhever som en mer energieffektiv og potensielt billigere vei enn EUV i visse flyter. Hva som driver NIL fremover (hvorfor interessen øker) Kostnad og energi: Canon har eksplisitt markedsført NIL som betydelig lavere energibehov og enklere prosesstrinn sammenlignet med EUV i deres narrativ. Fotonikk/AR og store områder: Roll-to-plate/rolling NIL fremheves som en muliggjører for skalerbar produksjon av AR-bølgeledere/diffraktive elementer og relatert mikrooptikk. Template-innovasjon: Det skjer ting rundt templates (stemplene) og deres oppløsning/produksjon, noe som er sentralt for at NIL skal skalere til “ekte” volum. De største hindrene (det som avgjør om NIL blir “mainstream” i chips) I chipproduksjon er dette de klassiske “make-or-break” punktene: Defekter/partikler (kontaktprosess → følsom for kontaminasjon) og yield-spørsmål. Overlay/alignment (å legge mange lag nøyaktig oppå hverandre) og mekaniske deformasjoner/wafer-distortion i kontakttrinn. Template-levetid, kostnad og forsyningskjede (produksjon, inspeksjon, rengjøring, erstatning). Sannsynlig utvikling 2026–2030 1) Sterkest og mest sannsynlig vekst: fotonikk & nanooptikk Hier passer NILs “kopieringsstyrke” perfekt: den samme gitter/metaflate/bølgelederstrukturen kan replikeres med høy presisjon og god stykkostnad når prosessen sitter. 2) Halvledere: mer selektivt – først der NIL gir tydelig ROI Snarere enn å “erstatte EUV rett ut” er det mer realistisk at NIL tar nisjer eller spesifikke lag (f.eks. mønstre som er godt egnet for imprint, eller der kostnad/energi/verktøyflyt dominerer). Canon posisjonerer også NIL som et EUV-alternativ på kost/energi, men industrien er fortsatt i en fase der bevis i HVM (high-volume manufacturing) er det som teller. 3) EUV blir ikke “stillesittende” – og det påvirker NILs vindu EUV (inkl. High-NA) fortsetter å drives frem til tross for svært høye verktøykostnader, noe som betyr at NIL må vinne der EUV blir for dyrt/energitungt eller der NIL gir færre prosesstrinn med akseptabel yield. Hva jeg ville holde øye med (signalspaning) Uavhengige HVM-resultater: ikke bare pressemeldinger – men yield/defectivity/overlay-data over tid. Template-økosystemet: leveringskapasitet, inspeksjon, rengjøring, levetid og kostnad per wafer. Gjennombrudd i AR/metaflater: hvis AR-bølgeledere/metasurfaces skalerer i volum, kan NIL bli “default” for hele den optikklassen.
- ·18. des. 2025Jeg er nok den eneste som sitter med Svarteper fordi ingen svarer. Det var jo trist..... Noen tanker der ute ?·19. des. 2025Tvert imot! De fleste sitter nok med Svarteper og de fleste har nok gitt opp.·19. des. 2025Jeg leste i dag at kineserne prøver å utvikle en chip type Nvidia, og slikt lages med litografi. De har forsøkt å kopiere det nederlandske selskapets produkt, men har ikke lyktes. Er det ikke noe gutta på Obducat burde kommentere, og hvis det ligger innenfor deres forretningsområde, for det burde kunne være en skikkelig hyggelig cliffhanger.....
Kommentarene ovenfor kommer fra brukere på Nordnets sosiale nettverk Shareville og er verken redigert eller forhåndsvist av Nordnet. De innebærer ikke at Nordnet gir investeringsråd eller investeringsanbefalinger. Nordnet påtar seg ikke ansvar for kommentarene.
Ordredybde
Nordic Growth Market
Antall
Kjøp
34 691
Selg
Antall
44 309
Siste handler
| Tid | Pris | Antall | Kjøpere | Selger |
|---|---|---|---|---|
| 82 014 | AVA | NON | ||
| 14 000 | AVA | NON | ||
| 17 000 | AVA | ENS | ||
| 9 803 | AVA | AVA | ||
| 5 570 | AVA | NRD |
Høy
0,086VWAP
Lav
0,079OmsetningAntall
0,1 793 597
VWAP
Høy
0,086Lav
0,079OmsetningAntall
0,1 793 597
Meglerstatistikk
Fant ingen data